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酷斯特科技真空懸浮熔煉爐

酷斯特科技真空懸浮熔煉爐

所屬分類:真空懸浮爐

產(chǎn)品型號:

更新時間:2022-11-21

描述:酷斯特科技真空懸浮熔煉爐真空磁懸浮熔煉,料與坩堝無接觸冶煉,干凈無污染。冶煉溫度高,溫度可達2500甚至以上,專門應用于高熔點難熔金屬,活潑金屬等冶煉提純

詳細信息

一、酷斯特科技真空懸浮熔煉爐設(shè)備用途
  真空磁懸浮熔煉方法,是近些年來飛速發(fā)展的一種熔煉方法,主要用來制取高熔點、高純度和極活潑的金屬,在冶金和材料制備等許多重要領(lǐng)域得到了廣泛的應用,顯示出良好的應用前景。
二、酷斯特科技真空懸浮熔煉爐設(shè)備特點

真空磁懸浮熔煉,料與坩堝無接觸冶煉,干凈無污染。

2·冶煉溫度高,溫度可達2500甚至以上,專門應用于高熔點難熔金屬,活潑金屬等冶煉提純。

采用磁懸浮IGBT電源,配合自助研發(fā)的水冷分瓣銅坩堝,懸浮效果好。

4·采用兩級分子泵控制系統(tǒng)真空度高,可達5.0*10-5pa。

  • 主要技術(shù)參數(shù)

  1. 額定功率:65Kw

  2. 容量(以鈦計):0.25Kg

  3. 輸入電源:3 相、 380 ± 10 %、 50Hz

  4. 冷態(tài)極限真空度:6.67×10E-4Pa


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